電阻測(cè)量的定義
通常,電阻(電阻)用于評(píng)估物質(zhì)或材料的電導(dǎo)率(導(dǎo)電性)。我認(rèn)為下面的Ω(Ohm)是電阻的評(píng)估標(biāo)準(zhǔn)(許多人在“歐姆定律”中都記得它)。
⇒表示電流難易度的單位
R = V / I * V =電壓,I =電流
由數(shù)字萬用表(絕緣電阻表)測(cè)量的絕緣電阻也通常以Ω單位表示。
電阻單位還根據(jù)物質(zhì)或材料的形狀而適當(dāng)?shù)厥褂茫⑶腋鶕?jù)測(cè)量目標(biāo)而主要使用,因?yàn)榇嬖卺槍?duì)每個(gè)行業(yè)的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(例如,JIS)的電阻單位。關(guān)于電阻的表示法是不同的。
除了電阻[Ω],我們的電阻測(cè)量系統(tǒng)還支持以下兩種類型的電阻測(cè)量單位:電阻[Ωcm]和薄層電阻[Ω/□]。
*也稱為比電阻。
⇒物質(zhì)的“體積電阻值”
它主要用于表示較厚物體的電阻,例如硅片,大塊以及導(dǎo)電橡膠和塑料。
電阻:R的值由以下等式表示,其中ρ是電阻,L是導(dǎo)體的長(zhǎng)度,A是導(dǎo)體的截面積。
R =ρ×[L / A]
因此,電阻值ρ由下式表示。
ρ= V / I×[A / L]
*當(dāng)單位為Ωcm時(shí),該值為1 cm x 1 cm x 1 cm的體積。根據(jù)測(cè)量目標(biāo)的不同,它可能以Ωm(歐姆表)表示。
*也稱為比電阻。
⇒物質(zhì)的“表面電阻值”
它主要用于表示片狀材料(例如薄膜和膜狀材料)的電阻。
一般而言,當(dāng)表示三維電導(dǎo)率時(shí),電阻由下式表示。
R =ρ×L / A = L / W×ρs
假設(shè)樣品的長(zhǎng)度:L和寬度:W是均勻的,則電阻:R和薄層電阻:ρs相等。
薄層電阻:ρs也可以表示為通過將電阻:ρ除以厚度:t得到的值。
觸點(diǎn)類型:4種探頭法測(cè)量
在這里,我們將介紹接觸式電阻測(cè)量原理的概述(4探針法)(該原理的詳細(xì)信息在材料中進(jìn)行了說明)。
(*對(duì)于我們的產(chǎn)品,還有一個(gè)系統(tǒng)會(huì)根據(jù)電阻范圍使用不同的測(cè)量方法。)
四探針法主要用于接觸式情況,可以測(cè)量1E-3(1m)到1E + 9(1G)Ω/□電阻范圍。
這是在廣泛領(lǐng)域中測(cè)量電阻的基本測(cè)量方法。
●在四探針法中,將按照以下步驟進(jìn)行測(cè)量。
(1)將四個(gè)針狀電極直線地放在測(cè)量樣品上。
(2)兩個(gè)外部探頭之間流過恒定電流。
(3)通過測(cè)量?jī)蓚€(gè)內(nèi)部探針之間的電位差來計(jì)算電阻。
如下圖所示,電阻和薄層電阻的測(cè)量原理相同。
我們的4探針測(cè)量系統(tǒng)是符合JIS和ASTM標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量方法和校正方法,已被用作行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量系統(tǒng),尤其受到硅相關(guān)用戶的信賴。我會(huì)。
此外,關(guān)于可追溯性,我們使用符合NIST(美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院)標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)樣品作為設(shè)備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),進(jìn)行認(rèn)真的裝運(yùn)前檢驗(yàn)。
* 4探針法和“ 4端子法”具有相同的測(cè)量原理,唯1的區(qū)別是與樣品接觸的電極部分的形狀不同。4探針的針距為1 mm =測(cè)量點(diǎn):大約3 mm,與4端子探針相比,可以在非常小的點(diǎn)上進(jìn)行測(cè)量。另外,如在四端子法中一樣,通過消除在樣品上形成電極的需要可以提高工作效率。
<4個(gè)探頭測(cè)量參考視頻:AIST>
此外,納普森的4針電阻測(cè)量設(shè)備符合日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(JIS)和美國(guó)材料測(cè)試協(xié)會(huì)(ASTM)設(shè)定的以下標(biāo)準(zhǔn)。
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
JIS H 0602-1995
硅單晶和硅晶片的四探針法電阻測(cè)量方法
JIS K 7194-1994
導(dǎo)電塑料四探針法電阻測(cè)試方法
美國(guó)材料試驗(yàn)學(xué)會(huì)
ASTM F 84-99(SEMI MF84)
用在線四點(diǎn)探針測(cè)量硅晶片電阻率的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM F 374-00a
使用單配置程序的在線四點(diǎn)探針對(duì)硅外延層,擴(kuò)散層,多晶硅層和離子注入層的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM F 390-11
帶共線四探針陣列的金屬薄膜的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM F 1529-97
雙重配置程序的在線四點(diǎn)探針通過薄層電阻均勻性評(píng)估的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
非接觸型:渦流法測(cè)量
在這里,我們將介紹非接觸式(渦流法)電阻測(cè)量原理的概況(該原理的詳細(xì)說明在材料中)。
(*在我們的產(chǎn)品中,根據(jù)電阻范圍,還有另一種非接觸式電阻測(cè)量方法系統(tǒng)。請(qǐng)單擊此處。請(qǐng)參考。此外,關(guān)于非接觸式測(cè)量原理,除了渦流方法外,但很抱歉給您帶來麻煩請(qǐng)聯(lián)系我們)
渦流法主要用于非接觸式,可測(cè)量1E-3(1m)至1E + 4(10k)Ω/□電阻范圍。
它可用于半導(dǎo)體,化合物半導(dǎo)體,液晶和新型碳基材料等廣泛領(lǐng)域的測(cè)量。
渦電流測(cè)量系統(tǒng)使用電磁感應(yīng)產(chǎn)生的渦電流來測(cè)量電阻。
非接觸式測(cè)量探頭單元的探頭芯(磁性材料)在兩側(cè)(上下)以一定的間隙排列。
<非接觸式測(cè)量探頭單元的結(jié)構(gòu)>
●在渦流法中,按照以下步驟進(jìn)行測(cè)量。
(1)當(dāng)在探針芯之間施加高頻以產(chǎn)生磁通量并且插入樣本時(shí),樣本中產(chǎn)生渦流。
(2)此時(shí),(1)渦電流流過樣品→(2)樣品中消耗了電流,發(fā)生了功率損耗。
→③電路中的電流成比例降低。檢測(cè)該減小的電流值。
(3)由于檢測(cè)到的電流值與樣品的電阻成反比關(guān)系,請(qǐng)使用此值。
座電阻或電阻是從電流值和座電阻的校準(zhǔn)曲線(計(jì)算公式)得出的。
?。?計(jì)算電阻時(shí)需要樣品厚度信息)
如上所述,在非接觸型中,通過將樣品插入上下配對(duì)的探針之間的間隙中來進(jìn)行測(cè)量。
因此,探針單元的形狀不可避免地限制了樣品的厚度和相應(yīng)的尺寸。
因此,為了處理大樣本和厚樣本,我們通過應(yīng)用渦流技術(shù)開發(fā)并制造了一種單面手持式探頭。
如左圖所示,只需垂直于樣品表面觸摸探頭即可進(jìn)行測(cè)量。
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